- Bài báo tạp chí
- Nhan đề: Integrated Sustainability Analysis of Atomic Layer Deposition for Microelectronics Manufacturing / Chris Y. Yuan, David A. Dornfeld
Tác giả CN
| Yuan, Chris Y. |
Nhan đề
| Integrated Sustainability Analysis of Atomic Layer Deposition for Microelectronics Manufacturing / Chris Y. Yuan, David A. Dornfeld |
Mô tả vật lý
| From p.174-181 |
Từ khóa tự do
| Atomic layer deposition |
Từ khóa tự do
| Material flow analysis |
Từ khóa tự do
| Sustainable manufacturing |
Tác giả(bs) CN
| Dornfeld, David A. |
Nguồn trích
| Journal of manufacturing science and engineering.-
Số: 3
Tập: 132
Năm: 2010 |
|
000
| 00000nab#a2200000ui#4500 |
---|
001 | 90260 |
---|
002 | 21 |
---|
004 | EC5F1E27-C426-4F81-9EAD-AA2E175E13F0 |
---|
005 | 201806241022 |
---|
008 | 081223s vm| vie |
---|
009 | 1 0 |
---|
039 | |y20180624102147|zluuyen |
---|
100 | |aYuan, Chris Y. |
---|
245 | |aIntegrated Sustainability Analysis of Atomic Layer Deposition for Microelectronics Manufacturing / |cChris Y. Yuan, David A. Dornfeld |
---|
300 | |aFrom p.174-181 |
---|
653 | |aAtomic layer deposition |
---|
653 | |aMaterial flow analysis |
---|
653 | |aSustainable manufacturing |
---|
700 | |aDornfeld, David A. |
---|
773 | |tJournal of manufacturing science and engineering.|d2010|v132|i3 |
---|
890 | |c1 |
---|
| |
Không tìm thấy biểu ghi nào
|
|
|
|
|